应用物理学专题
研究方向:物理
出版国家或地区:UNITED STATES
ISSN刊号:0303-4216
E-ISSN刊号:1437-0859
期刊简称
TOP APPL PHYS
大类学科:物理与天体物理
小类学科:PHYSICS, APPLIED
出版周期:Quarterly
出版年份:1973
出版语言:English
出版国家和地区:UNITED STATES
是否预警:否
出版商:Springer Verlag
通讯方式:SPRINGER-VERLAG BERLIN, HEIDELBERGER PLATZ 3, BERLIN, GERMANY, D-14197
《Topics In Applied Physics》(中文名称:应用物理学专题)是一本在 物理 - 物理:应用领域享有盛誉的学术期刊, 由Springer Verlag出版商出版。 该期刊自1973年创刊以来, 已被国际知名数据库 SCIE(科学引文索引扩展版) 收录,确保了其研究成果的全球可见性和学术影响力。
在中科院SCI期刊分区中,应用物理学专题被归类为物理与天体物理类4区,显示了其在该领域的卓越地位和高度认可。 在Web of Science的期刊引用报告(JCR)中,应用物理学专题同样表现出色,其 物理 - 物理:应用 领域位于区,进一步证明了其在物理与天体物理领域的领先地位。 CiteScore指数为1.3,,,这些指标均体现了期刊的学术影响力。 该期刊的平均审稿周期约为 12周,或约稿 。
综上所述,《Topics In Applied Physics》作为一本在 物理 - 物理:应用领域具有重要影响力的学术期刊, 凭借其高质量的论文发表、广泛的学术认可,成为了科研人员投稿和学术交流的重要平台之一。
2016年 | 2017年 | 2018年 | 2019年 | 2020年 | 2021年 | 2022年 | 2023年 |
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0.238 | 0.54 | 0.746 | 0 | 0.643 | 0.57 | 0 | 0 |
2016年 | 2017年 | 2018年 | 2019年 | 2020年 | 2021年 | 2022年 | 2023年 |
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0.9 | 0.8 | 1.1 | 1.3 | 0.6 | 0.5 | 0.8 | 1.3 |
学科类别 | 分区 | 排名 | 百分位 |
大类:Physics and Astronomy 小类:Physics and Astronomy (miscellaneous) | Q3 | 54 / 81 |
33% |
Top期刊:否 综述期刊:是
大类学科 | 小类学科 | ||
物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 |
Top期刊:否 综述期刊:是
大类学科 | 小类学科 | ||
物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 |
Top期刊:否 综述期刊:是
大类学科 | 小类学科 | ||
物理 | 4区 | PHYSICS, APPLIED 物理:应用 | 4区 |
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |