等离子源科技
研究方向:物理
出版国家或地区:ENGLAND
ISSN刊号:0963-0252
E-ISSN刊号:1361-6595
期刊简称
PLASMA SOURCES SCI T
大类学科:物理与天体物理
小类学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
出版周期:Bimonthly
出版年份:1992
出版语言:English
出版国家和地区:ENGLAND
是否预警:否
出版商:IOP Publishing Ltd.
通讯方式:IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE
《Plasma Sources Science & Technology》(中文名称:等离子源科技)是一本在 物理 - 物理:流体与等离子体领域享有盛誉的学术期刊, 由IOP Publishing Ltd.出版商出版。 该期刊自1992年创刊以来, 已被国际知名数据库 SCIE(科学引文索引扩展版) 收录,确保了其研究成果的全球可见性和学术影响力。
在中科院SCI期刊分区中,等离子源科技被归类为物理与天体物理类2区,显示了其在该领域的卓越地位和高度认可。 在Web of Science的期刊引用报告(JCR)中,等离子源科技同样表现出色,其 物理 - 物理:流体与等离子体 领域位于Q1区,进一步证明了其在物理与天体物理领域的领先地位。 该期刊的最新影响因子为3.3,CiteScore指数为7.1,SJR指数为0.771,SNIP指数为1.373,这些指标均体现了期刊的学术影响力。 该期刊的平均审稿周期约为 约6.0个月 。
综上所述,《Plasma Sources Science & Technology》作为一本在 物理 - 物理:流体与等离子体领域具有重要影响力的学术期刊, 凭借其高质量的论文发表、广泛的学术认可,成为了科研人员投稿和学术交流的重要平台之一。
2016年 | 2017年 | 2018年 | 2019年 | 2020年 | 2021年 | 2022年 | 2023年 |
---|---|---|---|---|---|---|---|
3.302 | 3.939 | 4.128 | 3.193 | 3.584 | 4.124 | 3.8 | 3.3 |
2016年 | 2017年 | 2018年 | 2019年 | 2020年 | 2021年 | 2022年 | 2023年 |
---|---|---|---|---|---|---|---|
5 | 6.3 | 6.5 | 6.3 | 5.9 | 6.3 | 6.6 | 7.1 |
学科类别 | 分区 | 排名 | 百分位 |
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics | Q1 | 74 / 434 |
83% |
Top期刊:否 综述期刊:否
大类学科 | 小类学科 | ||
物理与天体物理 | 2区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 1区 |
Top期刊:是 综述期刊:否
大类学科 | 小类学科 | ||
物理与天体物理 | 1区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 1区 |
Top期刊:是 综述期刊:否
大类学科 | 小类学科 | ||
物理与天体物理 | 2区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 1区 |
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.3% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q1 | 6 / 40 |
86.25% |
国家/地区 | 数量 |
USA | 198 |
CHINA MAINLAND | 137 |
GERMANY (FED REP GER) | 136 |
France | 122 |
Russia | 108 |
Netherlands | 61 |
Japan | 56 |
Czech Republic | 53 |
England | 40 |
Italy | 34 |